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集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部连线集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。集成电路一般分为设计、制造、封装三个阶段。在设计集成电路时，一般分为"前端设计"和"后端设计"两大部分。前端设计进行电路系统设计、产生电路图和它的连接网表；后端设计要设计出制造过程所需掩膜版的十几层甚至二十几层版图图形。一般说，前端设计的内容应当用专利保护，而布图设计则采用集成电路布图保护条例保护，设计后芯片的制造、封装同前端设计一样采用专利保护。
集成电路布图设计是TRIPS协议所规定应保护的知识产权，我国已先后于2001年4月和2001年9月公布了《集成电路布图设计保护条例》及其实施细则，并于2001年10月1日起正式实施。 |
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根据上述法规，集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
与著作权不同，布图设计专有权必须经国家知识产权行政部门，即国家知识产权局登记后生效。申请布图设计登记应提交布图设计登记申请表，布图设计的复制件或者图样等材料。中国单位或个人可以自行提交有关申请，也可以委托专利代理机构办理。国外申请人必须经过国家知识产权局指定的代理机构办理。
经登记注册后布图设计权利人享有下列专有权：
（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
集成电路布图设计的专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。权利人可以将专有权转让或者许可他人使用其布图设计。如权利人发现有侵权行为，有权申请诉前临时禁令，责令侵权人停止有关行为，并进行财产保全。 |
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